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Industrielles MOCVD-SystemDie Nice{0}}Tech CV600/CV700-Serien sind hochwertige MOCVD-Geräte für die Massenproduktion-für das epitaktische Wachstum von Verbindungshalbleitern, die die proprietäre Planeten--Satelliten-Doppelrotationstechnologie nutzen, um ein...mehr sehen
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Standard-MOCVD-SystemDie MOCVD-Geräte der Nice-Tech MC150/MC200/MC300-Serie nutzen das eng gekoppelte Gasinjektionsmodell mit vertikalen Duschköpfen, mit inhärenten epitaktischen Gleichmäßigkeitsvorteilen durch versetzte Quellengasdüsen mit hoher -Dichte...mehr sehen
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GaN-MOCVDGaN-MOCVD ist eine spezielle Epitaxie-Wachstumsanlage, die für die Abscheidung hochwertiger Galliumnitrid (GaN)- und verwandter Verbindungshalbleiter-Dünnfilme konzipiert ist.mehr sehen
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MOCVDUnsere MOCVD-Anlage (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) ist ein zentrales Fertigungswerkzeug für die Abscheidung hochwertiger Epitaxiematerialien. Es ist professionell für die Herstellung von Galliumarsenid (GaAs), Indiumphosphid...mehr sehen
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Vertikales LPCVD-SystemDas vertikale LPCVD TEOS/Poly/SiN ist ein chemisches Niederdruck-Gasphasenabscheidungssystem für die Halbleiterfertigung. Es wird zur Abscheidung hochwertiger Poly-, TEOS-, SiN- und HTO-Dünnfilme verwendet.mehr sehen
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PECVD-AusrüstungNice-Tech hat drei PECVD-Modelle auf den Markt gebracht – Depomerits PE 100, PE 200 und PE 300 – und zusammen bilden sie eine Produktmatrix, die alle wichtigen Szenarios abdeckt: von der Laborforschung über kleine {{4}Chargenläufe bis...mehr sehen
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ICP-CVD-SystemDas Nice-Tech' 8-Zoll ICP-CVD-System ist für die Dünnfilmabscheidung auf 8-Zoll-Wafern konzipiert. Es erzeugt hochdichtes Plasma über induktive Kopplung (ICP) und stellt durch kapazitive Kopplung (CCP) eine Vorspannung her, was eine...mehr sehen
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LPCVD-AusrüstungLPCVD (Low Pressure Chemical Vapour Deposition) ist eine zentrale Halbleiterprozesstechnologie. Unter Niederdruckbedingungen werden gasförmige Verbindungen erhitzt, um Reaktionen auszulösen und stabile, feste, dünne Filme auf...mehr sehen
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