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![Industrielles MOCVD-System]()
Industrielles MOCVD-SystemDie Nice{0}}Tech CV600/CV700-Serien sind hochwertige MOCVD-Geräte für die Massenproduktion-für das epitaktische Wachstum von Verbindungshalbleitern, die die proprietäre Planeten--Satelliten-Doppelrotationstechnologie nutzen, um ein...mehr sehen -
![Standard-MOCVD-System]()
Standard-MOCVD-SystemDie MOCVD-Geräte der Nice-Tech MC150/MC200/MC300-Serie nutzen das eng gekoppelte Gasinjektionsmodell mit vertikalen Duschköpfen, mit inhärenten epitaktischen Gleichmäßigkeitsvorteilen durch versetzte Quellengasdüsen mit hoher -Dichte...mehr sehen -
![IBD-System]()
IBD-SystemBei dieser Ionenstrahlabscheidungsanlage handelt es sich um ein hochpräzises Dünnschichtabscheidungssystem, das für die Vorbereitung von Metalldraht- und ohmschen Kontaktdünnschichten bei der Herstellung von Infrarotgeräten entwickelt...mehr sehen -
![Doppel-Kammer-Magnetron-Sputtersystem]()
Doppel-Kammer-Magnetron-SputtersystemDieses Doppelkammer-Magnetron-Sputtersystem wurde speziell für die Herstellung von Infrarot-Fokalebenengeräten entwickelt. Seine Hauptfunktion besteht darin, zusammengesetzte Passivierungsfilme aus ZnS/CdTe auf epitaktischen...mehr sehen -
![Vertikales LPE-System]()
Vertikales LPE-SystemDieser vertikale Flüssigphasen-Epitaxieofen ist für das Flüssigphasen-Epitaxiewachstum von HgCdTe-Dünnfilmmaterialien konzipiert, wobei der Schwerpunkt auf der Herstellung von As-dotierten P--Materialien liegt, die in Detektoren mit...mehr sehen -
![Horizontales LPE-System]()
Horizontales LPE-SystemDer horizontale Flüssigphasen-Epitaxieofen ist eine spezielle Prozessausrüstung, die für das Flüssigphasen-Epitaxiewachstum von HgCdTe-Dünnfilmen entwickelt wurde.mehr sehen -
![Kohlenstoff-Magnetron-Sputtersystem]()
Kohlenstoff-Magnetron-SputtersystemUnsere Kohlenstofffilm-Sputter-Ausrüstung ist ein spezielles System, das für die Abscheidung von Hochtemperatur-Kohlenstofffilm-Schutzschichten auf SiC-Geräten entwickelt wurde. Es nutzt eine Cluster-Architektur, die mit mehreren...mehr sehen -
![GaN-MOCVD]()
GaN-MOCVDGaN-MOCVD ist eine spezielle Epitaxie-Wachstumsanlage, die für die Abscheidung hochwertiger Galliumnitrid (GaN)- und verwandter Verbindungshalbleiter-Dünnfilme konzipiert ist.mehr sehen -
![MOCVD]()
MOCVDUnsere MOCVD-Anlage (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) ist ein zentrales Fertigungswerkzeug für die Abscheidung hochwertiger Epitaxiematerialien. Es ist professionell für die Herstellung von Galliumarsenid (GaAs), Indiumphosphid...mehr sehen -
![Vertikales LPCVD-System]()
Vertikales LPCVD-SystemDas vertikale LPCVD TEOS/Poly/SiN ist ein chemisches Niederdruck-Gasphasenabscheidungssystem für die Halbleiterfertigung. Es wird zur Abscheidung hochwertiger Poly-, TEOS-, SiN- und HTO-Dünnfilme verwendet.mehr sehen -
![Magnetron-Sputtersystem]()
Magnetron-SputtersystemDieses Magnetron-Sputtersystem ist für die Abscheidung dünner Metallschichten in der Halbleiterfertigung konzipiert. Es wird häufig in integrierten Schaltkreisen, Leistungsgeräten und fortschrittlichen Verpackungen verwendet.mehr sehen -
![MBE-System]()
MBE-SystemUnser Molekularstrahlepitaxiesystem (MBE) ist eine hochpräzise epitaktische Wachstumsanlage für Verbindungshalbleitermaterialien, insbesondere für ultradünne Heterostrukturmaterialien. Es wird hauptsächlich bei der Herstellung von...mehr sehen
Als einer der professionellsten Hersteller und Lieferanten von Dünnschicht-Abscheidungsgeräten in China zeichnen wir uns durch Qualitätsprodukte und gute Preise aus. Seien Sie versichert, dass Sie in unserem Werk maßgeschneiderte Geräte zur Dünnschichtabscheidung kaufen können. Für ein Angebot und eine Preisliste kontaktieren Sie uns jetzt.
