Fotolack ist eine Mischung aus Polymeren und einigen Verbindungen, von denen die wichtigste ein Fotosäuregenerator (PAG) ist. Wenn Photonen auf PAG treffen, entsteht eine Säure, die mit dem Polymer reagiert, es zersetzt und dazu führt, dass es vom Entwickler aufgelöst wird.
Fotolacke für die Fotolithographie werden üblicherweise in zwei Typen unterteilt: positiver Fotolack und negativer Fotolack.
Positiver Fotolack: Der belichtete Teil ist in der Entwicklerlösung löslich, während der unbelichtete Teil in der Entwicklerlösung unlöslich ist. Nach der Entwicklung ist das verbleibende Fotolackmuster auf dem Substrat dasselbe wie das Zielmuster auf der Maskenplatte.
Negativer Fotolack: Der belichtete Teil ist in der Entwicklerlösung unlöslich, während der unbelichtete Teil in der Entwicklerlösung löslich ist. Das nach der Entwicklung verbleibende Fotolackmuster auf dem Substrat ist komplementär zum Zielmuster auf der Maskenplatte.
Daher wird bei einem positiven Fotolack durch Ätzen des Substrats ohne Fotolackschutz nach Abschluss der Fotolithographie und schließlich durch Abwaschen des verbleibenden Fotolacks der einstufige Konstruktionsprozess von Halbleiterbauelementen auf der Substratoberfläche erreicht.
