Bedeckt man die Oberfläche eines Substrats wie eines Siliziumwafers mit einem hochlichtempfindlichen Fotolack und bestrahlt die Substratoberfläche dann mit spezifischem Licht (normalerweise ultraviolettes Licht, tiefes ultraviolettes Licht, extrem ultraviolettes Licht) durch eine Maske, die Zielmusterinformationen enthält, reagiert der mit dem Licht bestrahlte Fotolack. Daher erzeugt der nach der Entwicklung bestrahlte Bereich andere Effekte als der nicht bestrahlte Bereich (abhängig von den Eigenschaften des Fotolacks).
