Produktübersicht
Das Nano-3D-Lithographiesystem ist eine fortschrittliche projektionsbasierte Mikro--Stereolithographie (PμSL)-Plattform, die für die additive Fertigung im Mikro--- und Nano--Maßstab entwickelt wurde.
Durch den Einsatz optischer Systeme in Lithographiequalität-und maskenloser Direkt--Schreibtechnologie erreicht die Ploceus-Serie eine branchenweit führende Auflösung von bis zu1 μmDies ermöglicht die Herstellung komplexer Mikrostrukturen mit hohem -Aspektverhältnis-, Bauteilen aus mehreren Materialien und Keramikkomponenten mit außergewöhnlicher Maßgenauigkeit.
Die Serie umfasst mehrere Präzisionsstufen, um den unterschiedlichen Forschungs- und Industrieanforderungen gerecht zu werden:
LSS-20– Standardgenauigkeit (20 μm)
LSS-10 /– Hohe Präzision (10 μm)
LSS-05– Erweiterte Mikropräzision (5 μm)
LSS-02– Ultrapräzision (2 μm)
LSS-01-DL/LSS-01-TL– Multi-Linsen-Ausrichtungssysteme (bis zu 1 μm)
Mit modularen Konfigurationsoptionen, Multi-{0}Auflösungsumschaltung und visueller Ausrichtungsfunktion unterstützt die Ploceus-Serie sowohl Rapid Prototyping als auch hochpräzise Mikrofertigung.
Vorteile
① Ultra-Hohe Lithographiegenauigkeit
Auflösung von20 μm bis 1 μm
Maßtoleranz von nur ±3 μm
Herstellung von Strukturen mit hohem Aspektverhältnis
② Multi-Auflösungsumschaltung
Schnelle Umschaltung zwischen 1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm
Eine Plattform für unterschiedliche Präzisionsanforderungen
③ Multi-Materialkompatibilität
Harz
Biokompatibles Harz
Hydrogel (z. B. GelMA)
Aluminiumoxid-Keramik-Aufschlämmung
Technisches Hochtemperaturharz
④ Visuelle Ausrichtung und WYSIWYG-Verarbeitung
Optische Echtzeitüberwachung-
Automatische Nivellierung und Fokussierung
Heterogene Ausrichtung mit mehreren-Materialien
Genauigkeit der Overlay-Ausrichtung bis zu 2,5 μm
⑤ Hohe-Druckgeschwindigkeit
5–50-mal schneller als herkömmliche Mikrofabrikationswerkzeuge
Geeignet sowohl für den Prototypenbau als auch für die Serienproduktion in der Forschung
⑥ Modulares und flexibles Beckensystem
Minibottich (15 ml) zur Materialentwicklung
Großer Bottich für die Massenproduktion
Hochtemperatur-Druckmodul
Automatisches Entblasen-System
Anwendungen
Biomedizin und Biowissenschaften
· Mikrofluidische Chips
· Organoid-on-a-Plattformen
· Mikronadel-Arrays (massiv und hohl)
· Gerüste für die Gewebetechnik
· Arzneimittelabgabesysteme
· PDMS-Masterformen
Fortgeschrittene Materialien und Metamaterialien
Keramische Gitterstrukturen
Verlaufsmetamaterialien
Dreifachperiodische Minimaloberfläche (TPMS)
Mechanische Metamaterialien
Poröse Keramikgerüste
Mikro-Mechanische und funktionale Geräte
· Mikrogetriebe
· Mikroanschlüsse
· Optische Metaoberflächen
· Mikro-Federn
· Funktionelle Mikrostrukturen
Parameter
|
Modell |
Lithographiegenauigkeit |
Min. Schichtdicke |
Drucktoleranz |
Maximale Druckgröße |
Linsensystem |
|
LSS-20 |
20 μm |
5 μm |
±50 μm |
38×21×50 mm |
Einzellinse |
|
LSS-10 |
10 μm |
5 μm |
±20–25 μm |
50×50×50 mm |
Einzellinse |
|
LSS-05 |
5 μm |
3 μm |
±10 μm |
50×50×50 mm |
Einzellinse |
|
LSS-02 |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50 mm |
Doppelobjektiv |
|
LSS-01-DL |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50 mm |
Doppellinse (Ausrichtung) |
|
LSS-01-TL |
1 μm |
3 μm |
±3 μm |
50×50×50 mm |
Dreifachlinse (Ausrichtung) |
FAQ
F: 1. Welche Technologie verwendet dieses System?
A: Das System basiert auf der Projektions-Mikro-Stereolithographie (PμSL) und der maskenlosen Direkt-Schreiblithographie-Technologie und ermöglicht eine hochpräzise 3D-Fertigung im Mikro-/Nanomaßstab-.
F: 2. Was ist die höchste verfügbare Auflösung?
A: Je nach Modell reicht die Lithographiegenauigkeit von:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
bis zu 1 μm (PL-3D-PT)
F: 3. Welche Materialien werden unterstützt?
A: Das System unterstützt eine breite Palette von Materialien, darunter:
Funktionelle Harze
Biokompatible Harze
Technische Hochtemperaturharze
Hydrogel (z. B. GelMA)
Aluminiumoxid-Keramik-Aufschlämmung
Kundenspezifische Materialkompatibilität ist auf Anfrage erhältlich.
F: 4. Kann es Keramikstrukturen drucken?
A: Ja. Ausgewählte Modelle unterstützen das Drucken von Keramikschlämmen und ermöglichen die Herstellung poröser Keramikgerüste, Gitterstrukturen und Metamaterialien.
F: 5. Unterstützt das System das Drucken mehrerer Materialien?
A: Ja. Erweiterte Modelle (PL-3D-PD / PL-3D-PT) unterstützen den heterogenen Ausrichtungsdruck mit mehreren Materialien und einer Overlay-Ausrichtungsgenauigkeit von bis zu 2,5 μm.
F: 6. Welche Dateiformate werden unterstützt?
A: Das System unterstützt das STL-Format für die Eingabe von 3D-Modellen.
F: 7. Was ist die maximale Druckgröße?
A: Je nach Modell kann die unterstützte Druckgröße bis zu folgende Werte erreichen:
50 mm × 50 mm × 50 mm
Es sind kundenspezifische Beckenkonfigurationen verfügbar.
F: 8. Für welche Branchen ist dieses System geeignet?
A: Typische Anwendungen sind:
Herstellung mikrofluidischer Chips
Mikronadel-Arrays
Gerüste für das Tissue Engineering
Metamaterialien
Metaoberflächen
Mikro-mechanische Geräte
Es wird häufig in den Bereichen biomedizinische Forschung, fortschrittliche Materialien und Mikrofabrikation eingesetzt.
F: 9. Was sind die Installationsvoraussetzungen?
A: Temperatur: 20–40 Grad
Luftfeuchtigkeit: RH < 60 %
Standardlaborumgebung
Für den Grundbetrieb ist kein Reinraum erforderlich (abhängig von den Anwendungsanforderungen).
F: 10. Wie ist der Vergleich mit herkömmlichen SLA- oder DLP-3D-Druckern?
A: Das Ploceus-System bietet:
Optische Genauigkeit auf Lithographie--Niveau
Auflösung im Mikrometerbereich- (1–5 μm)
Höhere Dimensionsstabilität
Fähigkeit zur Ausrichtung mehrerer-Materialien
Es ist eher für die Mikro-/Nanofertigung als für die allgemeine Prototypenerstellung konzipiert.
Beliebte label: Nano-3D-Lithographiesystem, China Nano-3D-Lithographiesystemhersteller, Lieferanten
