Produktübersicht
Diese maskenlose Lithografiemaschine ist, vereinfacht gesagt, eine Maschine, die ohne „Maske“ komplizierte Muster auf Materialien ätzen kann. Es ist flexibler und kostengünstiger-als herkömmliche Schablonenlithographie und ermöglicht schnelle Musteranpassungen, wodurch es sich für Forschung, Kleinserienproduktion-und Lehre eignet.
Es gibt vier Hauptmodelle:
1. Die maskenlose Lithographiemaschine der Forschungsversion eignet sich für die Laborforschung, verarbeitet 6-Zoll-Materialien und ist in der Lage, Muster mit einer Feinheit von bis zu 0,4 Mikrometern zu ätzen, was eine hohe Präzision bietet;
2. Die Hochgeschwindigkeitsversion der maskenlosen Lithografiemaschine ist für die Kleinserienproduktion konzipiert und verarbeitet 8-Zoll-Materialien mit außergewöhnlich hohen Geschwindigkeiten von bis zu 2500 Quadratmillimetern pro Minute.
3. Die maskenlose Lithographiemaschine in der Bildungsversion ist ein kleines Desktop-Modell, nur 2 Zoll groß, ideal für den Unterricht im Klassenzimmer und einfach zu bedienen;
4. Die Ultra--Großformatversion, die 2-Meter große Materialien verarbeiten kann und spezifische Anforderungen an die Verarbeitung in großem Maßstab erfüllt.
Ganz gleich, ob Sie winzige Chipkomponenten, mikrofluidische Chips für biologische Experimente oder pädagogische Demonstrationen herstellen, es gibt ein Modell, das Ihren Anforderungen entspricht und Ihnen Zeit und Geld spart, da keine Maske erforderlich ist.
Wenn Sie wissen möchten, wie Sie ein bestimmtes Modell verwenden oder welches Modell Sie für ein bestimmtes Verarbeitungsszenario wählen sollten, wenden Sie sich bitte an unser Unternehmen. Wir erklären es Ihnen ausführlich anhand der Produktbroschüre.
Vorteile
Flexibles Design, keine Masken erforderlich
Kritische Maßgenauigkeit bis zu 400 nm
Geschwindigkeit bis zu 1200 mm2 /min
Ausstellungsfläche bis zu 4 m2
Graustufenlithographie bis zu 4096 Stufen
Parameter
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Modell |
MLM 100 |
MLM 200 |
MLM 300 |
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Kritische Dimension |
0.8 μm |
0.4 μm |
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Minimale Zeilen und Leerzeichen |
1.0 μm |
0.8 μm |
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Belichtungsgeschwindigkeit |
Linse①:3 mm2/Min Linse②:20 mm2/Min Objektiv③:100 mm2/Min |
Linse①:1 mm2/Min Linse②:3 mm2/Min Linse③:20 mm2/Min Objektiv④:100 mm2/Min |
Linse①:10 mm2/Min Objektiv②:60 mm2/Min Objektiv③:150 mm2/Min |
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Überlagerungsgenauigkeit (5 mm × 5 mm) |
400 nm |
350 nm |
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Überlagerungsgenauigkeit (50 mm × 50 mm) |
1000 nm |
700 nm |
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Wellenlänge |
LED: 405 nm / 380 nm |
LED: 405 nm / 390 nm |
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Automatischer Objektivwechsel |
Unterstützt |
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Graustufen |
Optional |
Unterstützt |
Nicht-optional |
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Substratgröße |
3 mm × 3 mm (min.) und 150 mm × 150 mm (max.) |
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Untergrunddicke |
0-10 mm |
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Datenformat |
GDS & DWG & DXF |
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Abmessungen (L×B×H) |
750 mm × 800 mm × 700 mm |
1150 mm × 950 mm × 2000 mm |
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Gewicht |
320 kg |
590 kg |
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Installationsanforderungen |
Gesamtfläche: 1,5 m × 1,5 m Leistung: 1,3 kW; Temperatur: 20–30 Grad; Luftfeuchtigkeit:RH 40-60 % Stromversorgung: 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 10 A |
Gesamtfläche: 2,2 m × 1,7 m Leistung: 1,4 kW; Temperatur: 20–30 Grad; Luftfeuchtigkeit:RH 40-60 % Stromversorgung: 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 10 A |
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Modell |
MLM 400 |
MLM 500 |
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Kritische Dimension |
1.0 μm |
0.5 μm |
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Minimale Zeilen und Leerzeichen |
2.0 μm |
0.5 μm |
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Belichtungsgeschwindigkeit |
Objektiv①:1000 mm2/Min Objektiv②:2500 mm2/Min |
Objektiv①:75 mm2/Min Objektiv②:300 mm2/Min Objektiv③:1200 mm2/Min |
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Überlagerungsgenauigkeit (5 mm × 5 mm) |
500 nm |
250 nm |
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Überlagerungsgenauigkeit (50 mm × 50 mm) |
1000 nm |
500 nm |
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Wellenlänge |
LD: 405 nm / 375 nm |
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Automatischer Objektivwechsel |
Unterstützt |
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Graustufen |
Optional |
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Substratgröße |
3 mm × 3 mm (min.) und 200 mm × 200 mm (max.) |
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Untergrunddicke |
0-10 mm |
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Datenformat |
GDS & DWG & DXF |
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Abmessungen (L×B×H) |
1700 mm × 1300 mm × 1950 mm |
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Gewicht |
1400 kg |
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Installationsanforderungen |
Gesamtfläche: 2,7 m × 2,3 m Leistung: 2,4 kW; Temperatur: 20–26 Grad; Luftfeuchtigkeit:RH 40-60 % Stromversorgung: 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 16 A |
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FAQ
Was ist der größte Vorteil dieser Maschine im Vergleich zu herkömmlichen Lithografiemaschinen?
Es macht „Masken“ (die in der traditionellen Lithographie verwendeten Vorlagen) überflüssig. Musteränderungen werden direkt in der Software vorgenommen, wodurch Kosten und Zeit für die Vorlagenerstellung gespart werden. Dies erleichtert die Produktion von Kleinserien und die Erforschung neuer Designs erheblich.
Wie fein kann es ätzen? Haben verschiedene Modelle unterschiedliche Präzision?
Die Präzision hängt vom Modell ab: Die Forschungsversion kann bis zu 0,4 Mikrometer ätzen, die Hochgeschwindigkeitsversion 0,5 Mikrometer und die Bildungsversion 1,5 Mikrometer, was für die meisten täglichen Forschungs- und Produktionsaufgaben ausreicht.
Welche Materialgrößen können damit verarbeitet werden?
Zu den kleineren Materialien gehören die Bildungsversion (2 Zoll, ca. 5 cm), die Forschungsversion (6 Zoll) und die Hochgeschwindigkeitsversion (8 Zoll). Für sehr große Materialien gibt es Modelle mit einer Ätztiefe von bis zu 2 Metern, die für große Sensoren und flexible Displays geeignet sind.
Wie schnell ist es? Ist es für die Produktion kleiner-Serien geeignet?
Die Hochgeschwindigkeitsversion kann bis zu 2.500 Quadratmillimeter pro Minute ätzen, was für die Produktion kleiner Stückzahlen ausreichend ist. Bei der Forschungsversion steht Präzision im Vordergrund, ihre Geschwindigkeit erfüllt aber auch experimentelle Anforderungen ohne lange Wartezeiten.
Kann es neben Standardmaterialien auch Sondermaterialien gravieren?
Es kann Diamanten, optische Fasern und sogar gebogene kleine Motorblätter gravieren. Es kann auch mit einem Handschuhfach ausgestattet werden, um Materialien zu handhaben, die gegenüber Wasser und Sauerstoff empfindlich sind (z. B. Mikro--LEDs und magnetische Oxide).
Kann es im Schulunterricht eingesetzt werden? Gibt es passende Modelle?
Eine pädagogische Version ist verfügbar. Es hat die Größe eines Desktops-, ist einfach zu bedienen und eignet sich perfekt für Schüler, um die Grundlagen der Fotolithografie zu üben. Die Genauigkeit von 1,5 Mikrometer reicht für Lehrexperimente aus.
Ist die Lichtquelle fest? Kann es geändert werden?
Der Standardwert ist 405 nm ultraviolettes Licht. Für besondere Anforderungen können andere Wellenlängen (z. B. 380 nm und 375 nm) ausgewählt werden, ohne dass das gesamte Gerät ausgetauscht werden muss.
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