Navigieren in der maskenlosen UV-Lithographie: Wählen Sie das richtige Modell für Ihr Projekt

Jan 04, 2026

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Wenn Sie schon einmal die Liste der Lithografiesysteme durchgesehen haben und sich gefragt haben: „Welches passt tatsächlich zu meinen Anforderungen?“-Sie sind nicht allein. Ganz gleich, ob Sie Prototypen in einem Labor erstellen oder die industrielle Produktion skalieren, bei der Wahl des maskenlosen UV-Lithographiemodells von Nice- kommt es darauf an, Ihre Ziele mit den wichtigsten Spezifikationen in Einklang zu bringen. Lassen Sie uns unser Sortiment aufschlüsseln, um Ihnen die Auswahl zu erleichtern.

 

Beginnen Sie mit Ihren „Must--Haves“

Beantworten Sie zunächst zwei Fragen, um die Optionen schnell einzugrenzen:

Was ist die kleinste Funktion, die ich brauche? (Bindt an kritische Dimension/Mindestlinien/Abstände.)

Wie schnell muss ich produzieren? (Bezieht sich auf die Belichtungsgeschwindigkeit.)

Alle unsere Modelle verzichten auf physische Masken (ein großer Vorteil aus Flexibilität!), sind jedoch für Präzision, Geschwindigkeit oder große Substrate optimiert. So stapeln sie sich.

 

1. Akademische Forschung und -Kleinserienpräzision: MLM 100

Für Universitätslabore oder Startups, die Prototypen von Mikrogeräten (MEMS, Mikrofluidik) entwickeln, bietet der UV Litho-ACA ein Gleichgewicht zwischen Genauigkeit und Platzeffizienz.

Präzision: 0,8 μm kritische Dimension (CD), 1,0 μm Linien/Abstände (ideal für Arbeiten im Labormaßstab).

Geschwindigkeit: Bis zu 100 mm²/min (drei Objektivoptionen-ideal für iterative Tests).

Platzbedarf: Kompakt 750 x 800 x 700 mm (320 kg), benötigt nur 1,5 x 1,5 m (passt in kleine Labore).

Bonus: Optionale Graustufen, unterstützt GDS/DWG/DXF-Formate.

 

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2. Hochpräzise industrielle Läufe: MLM 200

Wenn es auf ultra-feine Details (fortschrittliche Sensoren, Chips mit hoher-Dichte) und Konsistenz ankommt, ist der UV Litho-ACA Pro+ genau das Richtige.

Präzision: 0,4 μm CD, 0,8 μm Linien/Abstände, 350 nm Überlagerungsgenauigkeit (scharfe Mehrschichtstrukturen).

Geschwindigkeit: Bis zu 100 mm²/min (vier Linsen-stabil für kleine-bis-mittlere Produktion).

Vorteil: Graustufen werden unterstützt (bis zu 4096 Stufen) für 3D-Mikrostrukturen (z. B. Mikro--Optik).

Platzbedarf: 2,2 m × 1,7 m Fläche (590 kg)-passend für industrielle Einrichtungen.

 

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3. Kritische Graustufenanforderungen: MLM 300

Wenn Ihr Projekt Graustufen erfordert (keine Ausnahmen-z. B. kundenspezifische Mikrolinsen-, biomedizinische Implantate), ist der UV Litho-ACA Master genau dafür konzipiert.

Graustufen: Nicht-optional (keine Kompromisse bei der 3D-Qualität).

Präzision: Wie Pro+ (0,4 μm CD, 350 nm Overlay-Genauigkeit).

Geschwindigkeit: Schneller als Pro+ (bis zu 150 mm²/min)-besser für etwas größere Chargen.

Platzbedarf: Wie Pro+ (2,2 m × 1,7 m, 590 kg).

 

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4. Massenproduktion und große Substrate: MLM 400

Bei hochvolumigen Arbeiten (große Displays, Solarzellen) legt der UV Litho-S Wert auf Geschwindigkeit und Größe.

Geschwindigkeit: Die schnellste in unserem Sortiment-bis zu 2500 mm²/min (zwei Linsen, verkürzt die Produktionszeit).

Substrate: Behandelt bis zu 200 mm x 200 mm (andere maximal 150 mm x 150 mm).

Präzision: 1,0 μm CD, 2,0 μm Linien/Abstände (mehr als genug für industrielle Anforderungen).

Raum: 2,7 m x 2,3 m Fläche (1400 kg)-ideal für Fabrikhallen.

 

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5. Präzision + große Substrate: MLM 500

Wenn Sie große Substrate und eine bessere Präzision (flexible High-End-Sensoren) benötigen, ist der UV Litho-S+ genau das Richtige.

Präzision: 0,5 μm CD, 0,5 μm Linien/Abstände, 250 nm Überlagerungsgenauigkeit (beste in unserem Sortiment).

Geschwindigkeit: Bis zu 1200 mm²/min (drei Linsen-schneller als die ACA-Serie für große Substrate).

Substrate: max. 200 mm x 200 mm (Maßstäbe ohne Modellwechsel).

Platzbedarf: Wie UV Litho-S (2,7 m×2,3 m, 1400 kg).

 

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Schneller Spickzettel: Passen Sie Ihr Projekt an

 

Projekttyp

Bestes Modell

Hauptgrund

Laborforschung (kleine Chargen)

MLM 100

Kompakt + ausgewogene Präzision/Geschwindigkeit

Hochpräzise-Industrieläufe

MLM 200

0,4 μm CD+ unterstützte Graustufen

Kritische Graustufenarbeit

MLM 300

Nicht-optionale Graustufen+ höchste Präzision

Massenproduktion (große Substrate)

MLM 400

2500 mm2/min+200mmx200mm Unterstützung

Präzise Arbeiten auf großen-Untergründen

MLM 500

0,5 μm CD+200mm x 200 mm Größe

 

Schlussbemerkungen

Alle Modelle unserer maskenlosen UV-Lithographie verfügen über einen automatischen Linsenwechsel (spart Zeit!) und ISO-Zertifizierungen (ISO 9001/14001/45001 für Zuverlässigkeit). Wir bieten auch maßgeschneiderte extra-große Ausstellungsflächen (bis zu 4 m²)-fragen Sie einfach an.

Das „richtige“ Modell ist nicht das teuerste-es ist das, das Ihre Anforderungen erfüllt. Haben Sie Fragen zu einem Anwendungsfall? Kontaktieren Sie uns jetzt, um die am besten geeignete maskenlose UV-Lithographielösung auszuwählen.

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