Produktübersicht
Der multifunktionale Ionenimplantator „Customized Solution“ ist eine maßgeschneiderte Plattform für die Ionenimplantation. Diese Ausrüstung richtet sich an Forschungsinstitute, Universitäten und Kleinserien--Spezialprozess-Halbleiterproduktionslinien und unterstützt sowohl gasförmige als auch feste Ionenquellen. Die Zielkammer ist mit Implantationsmodi für hohe -Temperaturen und niedrige -Temperaturen konfigurierbar. Es ist äußerst anpassungsfähig für Materialmodifikationen, fortgeschrittene{9}Materialforschung, Pilot--Halbleiterfertigung und spezielle-Probenimplantation für unregelmäßige, kleine-Substrate. Die Plattform unterstützt personalisierte Hardware- und Funktionsanpassungen gemäß kundenspezifischen Prozessanforderungen.
Vorteile
Hochgradig anpassbare Architektur: Flexible Konfiguration von Ionenquelle, Zielkammer, Waferhalter und Strahlleitungsmodulen, um verschiedenen nicht{1}standardmäßigen Prozessanforderungen gerecht zu werden. Für die Zielkammer stehen sowohl Hochtemperatur- als auch kryogene Implantationsmodi zur Verfügung.
Dual-{0}Modus-Ionen--Quellenkompatibilität: Unterstützt den Betrieb mit Gasquellen und Feststoffquellen und deckt ein breites Spektrum implantierter Ionenarten für Materialwissenschaften und Halbleiterforschung und -entwicklung ab.
Breite Substratanpassungsfähigkeit: Funktioniert mit standardmäßigen 4-/6-Zoll-Wafern sowie unregelmäßigen kleinen Stücken, wodurch Einschränkungen beim Probenformfaktor für Forschung im Labormaßstab entfallen.
Großer Wafer-Temperatur-Einstellbereich: Unterstützt Prozesstemperaturen von Raumtemperatur bis zu 550 Grad, und eine optionale Kühltargetkammer kann auf Anfrage für Experimente mit temperaturempfindlichen Materialien konfiguriert werden.
Benutzerfreundlich-für F&E-Szenarien: Vereinfachte Rezeptureinrichtung, praktisches Beam{1}}Debugging und flexible Batch- oder Einzelprobeninjektion, gut-geeignet für akademische Forschung und kleine{4}Pilotproduktionen.
Anwendungen
Akademische Forschung und Lehre: Universitätslabore, materialwissenschaftliche Experimente in Forschungsinstituten
Materialmodifikation: Ionen-strahlmodifikation von Metallen, Keramiken, Polymeren und neuartigen Funktionsmaterialien
Spezielle Halbleiter-Pilotfertigung: Kleinserien-Verbund--Testproduktion von Halbleiterbauelementen
Kundenspezifischer Spezialprozess-Implantation für unregelmäßige kleine-Proben
Parameter
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Artikel |
Spezifikation |
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Wafer-/Probengröße |
6 Zoll, 4 Zoll oder unregelmäßige kleine Stücke |
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Energiereichweite (Einzelladung) |
30-200 keV |
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Implantatarten |
P, B, As, Fe, H, He und andere maßgeschneiderte Ionen |
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Wafertemperatur verarbeiten |
RT-550 Grad; Kühltargetkammer optional auf Anfrage |
FAQ
F: Für welche Kunden ist der multifunktionale Implantierer „Customized Solution“ hauptsächlich gedacht?
A: Es richtet sich an Universitäten, wissenschaftliche Forschungsinstitute und kleine Pilotproduktionslinien für Spezialverfahren für Halbleiter. Der Schwerpunkt liegt auf Forschung und Entwicklung und Kleinserien-Testläufen und nicht auf der großvolumigen Massenproduktion von Mainstream-IC-Fabriken.
F: Kann diese Maschine nicht standardmäßige unregelmäßige kleine Proben verarbeiten?
A: Ja. Abgesehen von standardmäßigen 4-Zoll- und 6-Zoll-Wafern unterstützt es auch unregelmäßige kleine Proben. Probenhalter können entsprechend den Probenabmessungen des Kunden angepasst werden.
F: Welche Temperaturoptionen stehen während der Implantation zur Verfügung?
A: Die Standardkonfiguration unterstützt die RT 550-Grad-Hochtemperaturimplantation. Als kundenspezifische Option kann eine Kühlzielkammer für Niedertemperaturprozesse hinzugefügt werden.
F: Welche Ionenquellenmodi unterstützt das Gerät?
A: Es ist sowohl mit gasförmigen als auch mit festen Ionenquellen kompatibel und deckt B, P, As, Fe, H, He und andere Ionenarten ab; Zusätzliche Ionenarten können durch kundenspezifische Modifikation realisiert werden.
F: Kann es mit anderen SEMICORE ZKX-Implantatoren in Produktionsqualität zusammenarbeiten?
A: Ja. Es kann mit Mittelstrom-Implantatoren der CIP-Serie, Hochstrom-CIC-Serie und CIE 8000-Hochenergieimplantaten zusammenarbeiten. Die maßgeschneiderte Plattform kann für die Vorforschung und Rezepterkundung vor der Massenproduktion auf produktionstauglichen Geräten verwendet werden.
F: Welche Dienste können für diese maßgeschneiderte Plattform erworben werden?
A: SEMICORE ZKX bietet Schemaanpassungen, Geräteinstallation und -inbetriebnahme, Ersatzteilversorgung, technischen Support vor Ort und Hilfsprozessexplorationsdienste für forschungsorientierte Projekte.
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