Widerstandsverdampfungssysteme

Widerstandsverdampfungssysteme

Die Widerstandsverdampfungssysteme von Nice-Tech sind speziell-angefertigte PVD-Geräte für die-qualitative Dünnschichtabscheidung- – zwei Kernmodelle, die Ihre Anforderungen abdecken: das RES 100 und das RES 200I.
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Beschreibung

Produktübersicht

 

Die Widerstandsverdampfungssysteme von Nice-Tech sind speziell-angefertigte PVD-Geräte für die -Qualität von Dünnfilmabscheidungen-zwei Kernmodelle, die Ihre Anforderungen abdecken: das RES 100 und das RES 200I.


Der RES 100 ist ein kompakter Allrounder (führt sowohl Elektronenstrahl- als auch Widerstandsverdampfung durch) mit einem platzsparenden Design-und eignet sich perfekt, wenn in Ihrem Labor oder Produktionsbereich nur wenig Platz zur Verfügung steht. Der RES 200I? Es handelt sich um einen Spezialisten, der speziell für professionelle Indium-Bump-Abscheidungsaufgaben entwickelt wurde.


Beide Modelle verfügen über ausgereifte Widerstandsheiztechnologie, erstklassige Vakuumkomponenten-und Vikaitechs eigenes vollautomatisches VKOS-Steuerungssystem-, sodass Sie jederzeit eine gleichmäßige und zuverlässige Filmbildung erhalten. In Bezug auf die Leistung- liefern sie: ±3 % Beschichtungsgleichmäßigkeit, ±2 % Wiederholgenauigkeit und ein Endvakuum von 1E-5 Pa. Ganz gleich, ob Sie Forschungs- und Entwicklungstests im Labor oder eine spezialisierte Industrieproduktion durchführen, diese Systeme erfüllen alle Anforderungen.

 

Vorteile

Gezielte Leistung

RES 200I optimiert die Indium-Bump-Abscheidung beim Inversionsschweißen; RES 100 führt eine Dual-Elektronenstrahl-/Widerstandsverdampfung durch und eignet sich für kleine -Batch-Aufgaben mit mehreren Materialien-.

Kompakt und effizient

Die Grundfläche des RES 100 von 3,15 m × 2,4 m × 2,2 m spart Platz. Beide Modelle zeichnen sich durch eine einfache Wartung und einen hohen Automatisierungsgrad aus, wodurch manuelle Arbeit eingespart wird.

Stabile Qualität

Verwendet Kernkomponenten erstklassiger Marken + präzise Temperaturregelung (RES 100: -50 bis 500 Grad; RES 200I: -80 bis 200 Grad) für eine gleichbleibende Filmreinheit.

Flexible Anpassung

Funktioniert mit In, Metallen und Dielektrika. Geeignet für kleine-Serienproduktion/Forschung und Entwicklung; optionale Kuppel-/Plattenhalterungen für verschiedene Werkstücke.

 

Anwendungen

01/

Spezialisierte Industrieprozesse:RES 200I für die Indium-Bump-Abscheidung beim Inversionsschweißen (Montage elektronischer Komponenten).

02/

Labor & Forschung und Entwicklung:RES 100 unterstützt die Forschung und Entwicklung neuer Materialien (Präzisionsoptik, Mikroelektronik) in kleinen Mengen an Universitäten/Instituten.

03/

Kleine-Serienproduktion:Kundenspezifische elektronische Komponenten, optische Teile, biomedizinische Geräte (hoch{0}}dünne Filme).

04/

Infrarot & Optoelektronik:Spezialisierte Dünnschichtlösungen für Infrarotdetektoren und optoelektronische Geräte.

 

Parameter

 

Kategorie

Artikel

T360 (kompakter Typ)

T550I (Spezialisierte Indiumverdampfungsart)

Allgemeine Informationen

Kerntechnologie

PVD-Widerstand/Elektronenstrahlverdampfung

PVD-Widerstandsverdampfung (Indium Bump Deposition)

Kontrollsystem

Vollautomatisches VKOS-Steuerungssystem (selbst-entwickelt)

Vollautomatisches VKOS-Steuerungssystem (selbst-entwickelt)

Kernkomponenten

International bekannte Markenteile (Vakuumpumpe, Manometer usw.)

International bekannte Markenteile (Vakuumpumpe,
Messgerät usw.)

Leistungsparameter

Gleichmäßigkeit der Beschichtung

±3%

±3%

Wiederholbarkeit der Beschichtung

±2%

±2%

Ultimatives Vakuum

1E-5Pa

1E-5Pa

Temperaturkontrollbereich

-50 Grad ~500 Grad

-80 Grad ~200 Grad

lon Quelle

Kaufman&Hall-Ionenquelle

Kaufman&Hall-Ionenquelle

Konfigurationsdetails

Kammertyp

Einzelne kompakte Kammer

Einzelne Spezialkammer

Vorrichtungen

Kuppel und Platte

Spezialvorrichtung für die Indiumabscheidung

Schlüsselfunktionen

Dual-Mode-Verdampfung (Widerstand/Elektronenstrahl); kleine-Stapelverarbeitung

Professionelle Indium-Bump-Abscheidung; Inversionsschweißen
Prozessanpassung

Physikalische Dimensionen

Platzbedarf (LxBxH)

3,15m x 2,4m x 2,2m

3,3m x 2,7m x 2,2m

 

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